<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE root>
<article xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns:ali="http://www.niso.org/schemas/ali/1.0/" article-type="other" dtd-version="1.2" xml:lang="en"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">Melts</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="en">Melts</journal-title><trans-title-group xml:lang="ru"><trans-title>Расплавы</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn publication-format="print">0235-0106</issn><issn publication-format="electronic">3034-5715</issn><publisher><publisher-name xml:lang="en">The Russian Academy of Sciences</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id pub-id-type="publisher-id">661257</article-id><article-id pub-id-type="doi">10.31857/S0235010623050055</article-id><article-id pub-id-type="edn">YUYDCJ</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="toc-heading" xml:lang="en"><subject>Articles</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="toc-heading" xml:lang="ru"><subject>Статьи</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="article-type"><subject></subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title xml:lang="en">EFFECT OF THE SUBSTRATE MATERIAL ON THE KINETICS OF SILICON ELECTROREDUCTION IN THE KCl–CsCl–K<sub>2</sub>SiF<sub>6</sub> MELT</article-title><trans-title-group xml:lang="ru"><trans-title>Влияние материала катода на кинетику электровосстановления ионов кремния в расплаве KCl–CsCl–K<sub>2</sub>SiF<sub>6</sub></trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Gevel</surname><given-names>T. A.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Гевел</surname><given-names>Т. А.</given-names></name></name-alternatives><email>a.v.suzdaltsev@urfu.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Gorshkov</surname><given-names>L. V.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Горшков</surname><given-names>Л. В.</given-names></name></name-alternatives><email>a.v.suzdaltsev@urfu.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Suzdaltsev</surname><given-names>A. V.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Суздальцев</surname><given-names>А. В.</given-names></name></name-alternatives><email>a.v.suzdaltsev@urfu.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/><xref ref-type="aff" rid="aff2"/></contrib><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Zaikov</surname><given-names>Yu. P.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Зайков</surname><given-names>Ю. П.</given-names></name></name-alternatives><email>a.v.suzdaltsev@urfu.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/><xref ref-type="aff" rid="aff2"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff1"><aff><institution xml:lang="en">Ural Federal University</institution></aff><aff><institution xml:lang="ru">Уральский федеральный университет</institution></aff></aff-alternatives><aff-alternatives id="aff2"><aff><institution xml:lang="en">Institute of High-Temperature Electrochemistry UB RAS</institution></aff><aff><institution xml:lang="ru">Институт высокотемпературной электрохимии УрО РАН</institution></aff></aff-alternatives><pub-date date-type="pub" iso-8601-date="2023-09-01" publication-format="electronic"><day>01</day><month>09</month><year>2023</year></pub-date><issue>5</issue><fpage>491</fpage><lpage>501</lpage><history><date date-type="received" iso-8601-date="2025-02-25"><day>25</day><month>02</month><year>2025</year></date></history><permissions><copyright-statement xml:lang="en">Copyright ©; 2023, Т.А. Гевел, Л.В. Горшков, А.В. Суздальцев, Ю.П. Зайков</copyright-statement><copyright-statement xml:lang="ru">Copyright ©; 2023, Т.А. Гевел, Л.В. Горшков, А.В. Суздальцев, Ю.П. Зайков</copyright-statement><copyright-year>2023</copyright-year><copyright-holder xml:lang="en">Т.А. Гевел, Л.В. Горшков, А.В. Суздальцев, Ю.П. Зайков</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="ru">Т.А. Гевел, Л.В. Горшков, А.В. Суздальцев, Ю.П. Зайков</copyright-holder></permissions><self-uri xlink:href="https://journals.eco-vector.com/0235-0106/article/view/661257">https://journals.eco-vector.com/0235-0106/article/view/661257</self-uri><abstract xml:lang="en"><p id="idm45181324756080">Due to the possibility of controlling composition and morphology, one of the promising methods for obtaining silicon and its materials is the electrolysis of molten salts. However, this requires data on the influence of various factors on the kinetics of silicon electrodeposition. In this work, an effect of the cathode substrate material on the kinetics of electroreduction of silicon ions in a low-fluoride melt (wt %) 57KCl–43CsCl with the addition of 2.8 wt % K<sub>2</sub>SiF<sub>6</sub> at a temperature of 730°C was studied by cyclic voltammetry and chronoamperometry. Interacting and indifferent materials for silicon were chosen as substrates: glassy carbon, silver, and nickel. On the glassy carbon electrode, the electroreduction of silicon ions proceeds in the potential region more negative than –0.05 V, on the silver electrode, more negative than 0.05 V, and on the nickel electrode, more negative than 0.40 V relative to the potential of the silicon quasi-reference electrode. For all the studied substrates, a cathode process is observed, which is not electrochemically reversible. In this case, according to chronoamperometry measurements, the stage of nucleation of a new phase at the cathode does not affect the kinetics of the process under study. Presumably, in the case of glassy carbon and silver, irreversibility can be caused by a delayed discharge, while silicon electrodeposition on a nickel electrode is accompanied by the formation of nickel silicides. From the voltammetric and chronoamperometric dependences, the diffusion coefficient of silicon ions to the glassy carbon electrode was estimated, the values of which were 1.5 · 10<sup>–5</sup> and 1.2 · 10<sup>–5</sup> cm<sup>2</sup>/s, respectively.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="ru"><p id="idm45181324753744">Благодаря возможности управления составом и морфологией одним из перспективных способов получения кремния и его материалов является электролиз расплавленных солей. Однако для этого необходимы данные о влиянии различных факторов на кинетику электроосаждения кремния. В настоящей статье методами циклической вольтамперометрии и хроноамперометрии изучено влияние материала катодной подложки на кинетику электровосстановления ионов кремния в малофторидном расплаве (мас. %) 57KCl–43CsCl с добавкой 2.8 мас. % K<sub>2</sub>SiF<sub>6</sub> при температуре 730°С. В качестве подложек выбраны взаимодействующие и индифферентные по отношению к кремнию материалы: стеклоуглерод, серебро и никель. На стеклоуглеродном электроде электровосстановление ионов кремния протекает в области потенциалов отрицательнее –0.05 В, на серебряном – отрицательнее 0.05 В, и на никелевом – отрицательнее 0.40 В относительно потенциала кремниевого квазиэлектрода сравнения. Для всех исследованных подложек наблюдается протекание катодного процесса, не являющегося электрохимически обратимым. При этом, согласно хроноамперным измерениям, стадия зарождения новой фазы на катоде не оказывает влияния на кинетику исследуемого процесса. Предположительно, в случае стеклоуглерода и серебра необратимость может вызвана замедленным разрядом, в то время как на никелевом электроде электроосаждение кремния сопровождается образованием силицидов никеля. Из вольтамперных и хроноамперных зависимостей был оценен коэффициент диффузии ионов кремния к стеклоуглеродному электроду, значения которого составили 1.5 · 10<sup>–5</sup> и 1.2 · 10<sup>–5</sup> см<sup>2</sup>/с соответственно.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="en"><kwd>silicon</kwd><kwd>electroreduction</kwd><kwd>chloride melt</kwd><kwd>voltammetry</kwd><kwd>chronoamperometry</kwd><kwd>depolarization</kwd></kwd-group><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>кремний</kwd><kwd>электровосстановление</kwd><kwd>хлоридный расплав</kwd><kwd>вольтамперометрия</kwd><kwd>хроноамперометрия</kwd><kwd>деполяризация</kwd></kwd-group></article-meta></front><body></body><back><ref-list><ref id="B1"><label>1.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">1. Kulova T.L. Novyye elektrodnyye materialy dlya litiy-ionnykh akkumulyatorov (Obzor) [New electrode materials for lithium–ion batteries (Review)] // Elektrokhimiya. 2013. 49. P. 1–25. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Кулова Т.Л. Новые электродные материалы для литий-ионных аккумуляторов (Обзор) // Электрохимия 2013. 49. № 1. С. 1–25.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B2"><label>2.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">2. Leonova A.M., Bashirov O.A., Leonova N.M., Lebedev A.S., Trofimov A.A., Suzdaltsev A.V. Synthesis of C/SiC mixtures for composite anodes of lithium-ion power sources // Applied Sciences. 2023. 13. P. 901.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Leonova A.M., Bashirov O.A., Leonova N.M., Lebedev A.S., Trofimov A.A., Suzdaltsev A.V. Synthesis of C/SiC mixtures for composite anodes of lithium-ion power sources // Applied Sciences. 2023. 13. P. 901.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B3"><label>3.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">3. Suzdaltsev A.V., Gevel T.A., Parasotchenko Yu.A., Pavlenko O.B. Kratkiy obzor rezul’tatov ispol’zovaniya elektroosazhdennogo kremniya dlya ustroystv preobrazovaniya i nakopleniya energii [Brief review of the results of using electrodeposited silicon in energy conversion and storage devices] // Rasplavy. 2023. № 1. P. 99–108. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Суздальцев А.В., Гевел Т.А., Парасотченко Ю.А., Павленко О.Б. Краткий обзор результатов использования электроосажденного кремния для устройств преобразования и накопления энергии // Расплавы. 2023. № 1. С. 99–108.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B4"><label>4.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">4. Isakov A.V., Khudorozhkova A.O., Vovkotrub E.G., Vorob’ov A.S., Redkin A.A., Zaikov Yu.P. Vliyaniye KI na vzaimodeystviya v sistemakh KF–KCl, soderzhashchikh K2SiF6 i SiO2 [Influence of KI addition on the interactions in KF–KCl containing K2SiF6 and SiO2] // Rasplavy. 2021. № 1. P. 65–78. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Исаков А.В., Худорожкова А.О., Вовкотруб Э.Г., Воробьев А.С., Редькин А.А., Зайков Ю.П. Влияние KI на взаимодействия в системах KF–KCl, содержащих K2SiF6 и SiO2 // Расплавы. 2021. № 1. С. 65–78.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B5"><label>5.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">5. Anfimov I.M., Kobeleva S.P., Malinkovich M.D., Shchemerov I.V., Toporova O.V., Parkhomenko Yu.N. Mechanisms of electroconductivity in silicon–carbon nanocomposites with nanosized tungsten inclusions within a temperature range of 20–200°C // Rus. Microelectronics. 2013. 42. P. 488–491.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Anfimov I.M., Kobeleva S.P., Malinkovich M.D., Shchemerov I.V., Toporova O.V., Parkhomenko Yu.N. Mechanisms of electroconductivity in silicon–carbon nanocomposites with nanosized tungsten inclusions within a temperature range of 20–200°C // Rus. Microelectronics. 2013. 42. P. 488–491.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B6"><label>6.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">6. Leonova N.M., Leonova A.M., Bashirov O.A., Lebedev A.S., Trofimov A.A., Suzdaltsev A.V. Anody na osnove S/SiC dlya litiy-ionnykh istochnikov toka [C/SiC-based anodes for lithium-ion current sources] // Elektrokhim. energetika. 2023. 23. № 1. P. 41–50. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Леонова Н.М., Леонова А.М., Баширов О.А., Лебедев А.С., Трофимов А.А., Суздальцев А.В. Аноды на основе С/SiC для литий-ионных источников тока // Электрохим. энергетика. 2023. 23. № 1. С. 41–50.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B7"><label>7.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">7. Kaibichev A.V., Kaibichev I.A. Osobennosti ochistki tekhnicheskogo kremniya pri plavke v gelii s vozdeystviyem na rasplav elektricheskogo polya na molibdenovom i grafitovom electrode [Features of technical silicon cleaning in melting in helium with impact on electric field melt on molybdenum and graphite electrode] // Rasplavy. 2019. № 3. P. 258–264. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Кайбичев А.В., Кайбичев И.А. Особенности очистки технического кремния при плавке в гелии с воздействием на расплав электрического поля на молибденовом и графитовом электроде // Расплавы. 2019. № 3. С. 258–264.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B8"><label>8.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">8. Stulov Y., Dolmatov V., Dubrovskiy A., Kuznetsov S. Electrochemical synthesis of functional coatings and nanomaterials in molten salts and their application // Coatings. 2023. 13. P. 352.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Stulov Y., Dolmatov V., Dubrovskiy A., Kuznetsov S. Electrochemical synthesis of functional coatings and nanomaterials in molten salts and their application // Coatings. 2023. 13. P. 352.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B9"><label>9.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">9. Golosov O.A., Khvostov S.S., Staritsyn S.V., Barybin A.V., Pastukhov V.I., Glushkova N.V., Zaikov Yu.P., Nikitina E.V., Kazakovtseva N.A. Skorost’ korrozii stali EP-823 v rasplavakh khloridov shchelochnykh metallov [EP-823 steel corrosion rate in molten chlorides of alkali metals] // Rasplavy. 2023. № 2. P. 203–218. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Голосов О.А., Хвостов С.С., Старицын С.В., Барыбин А.В., Пастухов В.И., Глушкова Н.В., Зайков Ю.П., Никитина Е.В., Казаковцева Н.А. Скорость коррозии стали ЭП-823 в расплавах хлоридов щелочных металлов // Расплавы. 2023. № 2. С. 203–218.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B10"><label>10.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">10. Ageeva E.V., Serebrovsky V.I., Sernikova O.S. Optimizatsiya protsessa elektroosazhdeniya kompozitsionnykh pokrytiy iz elektrolitov-suspenziy [Optimization of the process of electrodeposition of composite coatings from electrolytes-suspensions] // Izv. Yugo-Zapadnogo gos. un-ta. Seriya: Tekhnika i tekhnologii. 2023. 13. № 1. P. 32–47. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Агеегеева Е.В., Серебровский В.И., Серникова О.С. Оптимизация процесса электроосаждения композиционных покрытий из электролитов-суспензий // Изв. Юго-Западного гос. ун-та. Серия: Техника и технологии. 2023. 13. № 1. С. 32–47.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B11"><label>11.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">11. Laptev M.V., Isakov A.V., Grishenkova O.V., Vorob’ev A.S., Khudorozhkova A.O., Akashev L.A., Zaikov Y.P. Electrodeposition of thin silicon films from the KF–KCl–KI–K2SiF6 melt // J. Electrochem. Soc. 2020. 167. P. 042506.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Laptev M.V., Isakov A.V., Grishenkova O.V., Vorob’ev A.S., Khudorozhkova A.O., Akashev L.A., Zaikov Y.P. Electrodeposition of thin silicon films from the KF–KCl–KI–K2SiF6 melt // J. Electrochem. Soc. 2020. 167. P. 042506.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B12"><label>12.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">12. Pavlenko O.B., Ustinova Yu.A., Zhuk S.I., Suzdaltsev A.V., Zaikov Yu.P. Silicon electrodeposition from low-melting LiCl–KCl–CsCl melts // Rus. Met. 2022. № 8. P. 818–824.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Pavlenko O.B., Ustinova Yu.A., Zhuk S.I., Suzdaltsev A.V., Zaikov Yu.P. Silicon electrodeposition from low-melting LiCl–KCl–CsCl melts // Rus. Met. 2022. № 8. P. 818–824.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B13"><label>13.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">13. Zaikov Yu.P., Zhuk S.I., Isakov A.V., Grishenkova O.V., Isaev V.A. Elektroosazhdeniye kremniya iz rasplava KF–KCl–KI–K2SiF6 [Silicon electrodeposition from the KF–KCl–KI–K2SiF6 melt] // Rasplavy. 2016. № 5. P. 441–454. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Зайков Ю.П., Жук С.И., Исаков А.В., Гришенкова О.В., Исаев В.А. Электроосаждение кремния из расплава KF–KCl–KI–K2SiF6 // Расплавы. 2016. № 5. С. 441–454.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B14"><label>14.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">14. Malyshev V.V., Kushkhov H.B., Shapoval V.I. High-temperature electrochemical synthesis of carbides, silicides and borides of VI-group metals in ionic melts // J. Appl. Electrochem. 2002. 32. № 5. P. 573–579.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Malyshev V.V., Kushkhov H.B., Shapoval V.I. High-temperature electrochemical synthesis of carbides, silicides and borides of VI-group metals in ionic melts // J. Appl. Electrochem. 2002. 32. № 5. P. 573–579.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B15"><label>15.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">15. Dolmatov V.S., Kuznetsov S.A. Katodnyye protsessy i khimicheskiye reaktsii pri elektrokhimicheskom sinteze karbidov tantala i kremniya v solevykh rasplavakh [Cathodic processes and chemical reactions in the electrochemical synthesis of tantalum and silicium carbides in molten salts] // Trudy Kol’skogo nauchnogo tsentra RAN. Khimiya i materialovedeniye. 2015. № 5(31). P. 224–227. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Долматов В.С., Кузнецов С.А. Катодные процессы и химические реакции при электрохимическом синтезе карбидов тантала и кремния в солевых расплавах // Труды Кольского научного центра РАН. Химия и материаловедение, спецвыпуск. 2015. № 5(31). С. 224–227.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B16"><label>16.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">16. Zhuk S.I., Gevel T.A., Zaikov Yu.P. Vliyaniye materiala podlozhki na kinetiku i mekhanizm elektroosazhdeniya kremniya iz rasplava KCl–KF–K2SiF6 [Effect of the substrate material on kinetics and mechanism of silicon electrodeposition from the KCl–KF–K2SiF6 melt] // Rasplavy. 2021. № 4. P. 354–364. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Жук С.И., Гевел Т.А., Зайков Ю.П. Влияние материала подложки на кинетику и механизм электроосаждения кремния из расплава KCl–KF–K2SIF6 // Расплавы. 2021. № 4. С. 354–364.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B17"><label>17.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">17. Yasuda K., Maeda K., Nohira T., Hagiwara R., Homma T. Silicon electrodeposition in water-soluble KF–KCl molten salt: Optimization of electrolysis conditions at 923 K // J. Electrochem. Soc. 2016. 163. № 3. P. D95–D99.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Yasuda K., Maeda K., Nohira T., Hagiwara R., Homma T. Silicon electrodeposition in water-soluble KF–KCl molten salt: Optimization of electrolysis conditions at 923 K // J. Electrochem. Soc. 2016. 163. № 3. P. D95–D99.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B18"><label>18.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">18. Kuznetsova, S.V., Dolmatov, V.S., Kuznetsov, S.A. Voltammetric study of electroreduction of silicon complexes in a chloride–fluoride melt // Rus. J. Electrochem. 2009. 45. P. 742–748.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Kuznetsova, S.V.; Dolmatov, V.S.; Kuznetsov, S.A. Voltammetric study of electroreduction of silicon complexes in a chloride–fluoride melt // Rus. J. Electrochem. 2009. 45. P. 742–748.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B19"><label>19.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">19. Gevel T.A., Zhuk S.I., Leonova N.M., Leonova A.M., Suzdaltsev A.V., Zaikov Yu.P. Electrodeposition of silicon from the KCl–CsCl–K2SiF6 melt // Rus. Met. 2022. № 8. P. 958–964.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Gevel T.A., Zhuk S.I., Leonova N.M., Leonova A.M., Suzdaltsev A.V., Zaikov Yu.P. Electrodeposition of silicon from the KCl–CsCl–K2SiF6 melt // Rus. Met. 2022. № 8. P. 958–964.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B20"><label>20.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">20. Zhuk S.I., Minchenko L.M., Suzdaltsev A.V., Isakov A.V., Zaikov Yu.P. Elektroosazhdeniye kremniya iz rasplavov KF–KCl–K2SiF6 i KF–KCl–KI–K2SiF6 Electrodeposition from the KF–KCl–K2SiF6 and KF–KCl–KI–K2SiF6 melts // Izv. vuzov. Tsvet. metallurgiya. 2023. 29. № 3. P. 17–26. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Жук С.И., Минченко Л.М., Суздальцев А.В., Исаков А.В., Зайков Ю.П. Электроосаждение кремния из расплавов KF–KCl–K2SiF6 и KF–KCl–KI–K2SiF6 // Изв. вузов. Цвет. металлургия. 2023. 29. № 3. С. 17–26.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B21"><label>21.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">21. Gevel T.A., Zhuk S.I., Ustinova Yu.A., Suzdaltsev A.V., Zaikov Yu.P. Elektrovydeleniye kremniya iz rasplava KCl–K2SiF6 [Silicon. Silicon electroreduction from the KCl–K2SiF6 melt] // Rasplavy. 2021. № 2. P. 187–198. [In Russian].</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Гевел Т.А., Жук С.И., Устинова Ю.А., Суздальцев А.В., Зайков Ю.П. Электровыделение кремния из расплава KCl–K2SiF6 // Расплавы. 2021. № 2. С. 187–198.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B22"><label>22.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">22. Roine A. HSC Chemistry® [Software], Outotec, Pori 2018. Software available at www.outotec.com/HSC</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Roine A. HSC Chemistry® [Software], Outotec, Pori 2018. Software available at www.outotec.com/HSC.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="B23"><label>23.</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="en">23. Bard A.J., Faulkner L.R. Electrochemical methods: fundamentals and applications, 2nd ed. – John Wiley &amp; Sons. N.Y. 2001.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="ru">Bard A.J., Faulkner L.R. Electrochemical methods: fundamentals and applications, 2nd ed. – John Wiley &amp; Sons. N.Y. 2001.</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list></back></article>
