Elektronika: Nauka, Tekhnologiya, BiznesElektronika: Nauka, Tekhnologiya, BiznesЭлектроника: наука, технология, бизнес1992-41781992-4186Technosphera JSC70660010.22184/1992-4178.2026.255.3.176.182Reliability and validationНадежность и испытанияResearch ArticleInductively coupled plasma mass spectrometry as an effective method for monitoring the purity of materials in microelectronic productionМасс-спектрометрия с индуктивно связанной плазмой как эффективный метод контроля чистоты материалов в микроэлектронном производствеTrushinaA.ТрушинаА.
Russian Federation

инженер-технолог

bykovaangelina4@gmail.comАО «Контракт-Холдинг»2304202631761822204202622042026Copyright ©; 2026, Trushina A.Copyright ©; 2026, Трушина А.2026Trushina A.Трушина А.https://journals.eco-vector.com/1992-4178/about/submissionshttps://journals.eco-vector.com/1992-4178/article/view/706600

The article discusses the method of inductively coupled plasma mass spectrometry, which allows for highly sensitive quantitative and qualitative analysis of impurities of most metals and a number of non-metals in chemicals, special gases and semiconductor structures used in microelectronic production.

В статье рассмотрен метод масс-спектрометрии с индуктивно связанной плазмой, который позволяет с высокой чувствительностью проводить как количественный, так и качественный анализ примесей большинства металлов и ряда неметаллов в химикатах, специальных газах и полупроводниковых структурах, применяемых в микроэлектронном производстве.

inductively coupled plasma mass spectrometryimpurity analysision opticsmass analyzerмасс-спектрометрия с индуктивно связанной плазмойанализ примесейионная оптикамасс-анализаторPolignano M.L., Borionetti G. Metallic Impurity Control in Silicon Processing // ECS Meeting Abstracts. 17th International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology. 2022. Vol. MA2022-01. P. 1123.Sugiyama N., Yamanaka M. Определение примесей ультра-следового уровня в высокочистых металлических образцах методом ИСП-МС с тройным квадруполем (ICP-QQQ) // EWCPS (Европейская Зимняя Конференция по ИСП-МС European). 2017. PP. 210–215.Spanu D., Palestra A., Prina V., Monticelli D., Bonanomi S., Nanot S.U., Binda G., Rampazzi L. et all. Tackling the Challenging Determination of Trace Elements in Ultrapure Silicon Carbide by LA-ICP-MS // Molecules 2023. Vol. 28, No 3. P. 1245.Zeng Y. Достижения в применении тандемной масс-спектрометрии для определения ультраследовых количеств элементов в химикатах для электронной промышленности. 2025. Vol. 47, No. 2. PP. 89–98.Лебедев А.Т. Масс-спектрометрия в органической химии // М.: Бином, 2015. C. 175.Watson J.T., Sparkman O.D. Введение в масс-спектрометрию // John Wiley & Sons. 4-е изд. 2017. C. 584.Хоффманн Э., Строобан В. Масс-спектрометрия. Принципы и применение / Пер. с англ. М.: Техносфера, 2021. C. 348.Масс-спектрометрия с индуктивно связанной плазмой (ИСП-МС) // Toray Research Center. https://www.toray-research.co.jp.Масс-спектрометрия высокого разрешения с индуктивно связанной плазмой (HR-ICP-MS) // ScienceDirect. https://www.sciencedirect.com/topics/.Geiger W.M., Raynor M.W. Trace analysis of specialty and electronic gases // Wiley. 2013. P. 312.ГХ-ИСП-МС для технологического контроля и контроля качества в производстве полупроводников // Spectroscopy Online. 2023. Вып. 38. № 9. PP. 22–27.Алексеев А.В., Якимович П.В. Анализ кремния методом масс-спектрометрии высокого разрешения с тлеющим разрядом // Труды ВИАМ. 2025. № 1. C. 45–52.Характеристика летучих маркеров в электронных компонентах с помощью ТФМЭ и двумерной ГХ с времяпролетным МС // Zenodo. 2023. https://zenodo.org/record/.Передовые достижения в контроле чистоты сверхчистой воды // Spectroscopy Online. 2026. https://www.spectroscopyonline.com/.Hoshino T., Kubota T. Использование 8900 ИСП-МС/МС для сверхследового анализа бора // Agilent Technologies. https://www.agilent.com/.Agilent Technologies. Общие соображения по проведению ИСП-МС анализа: руководство пользователя // Santa Clara: Agilent, 2020. C. 98.