A variant of the X-ray photoelectron spectroscopy method is disclosed. To clean the surface of the sample under study, the spectrum is recorded under continuously ventilation the working chamber of spectrometer with installed sample with a extra-pure noble gas at 10–3–10–1 Pa. It is shown that the proposed approach allows to obtain representative spectra of the sample surface free of adsorbed particles, contaminants and impurities without using ultra-high vacuum technology and without destructive effects on the sample surface. The proposed approach ensures a relatively quick preparation of the device for operation, as well as the possibility of studying samples that are destroyed under ultra-high vacuum conditions (crystal hydrates, organic compounds) and under the influence of hard methods of surface cleaning, such as mechanical cleaning, significant heating or ion etching.
Предложен вариант метода рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии. Для очистки поверхности исследуемого образца регистрацию спектра ведут при непрерывной продувке рабочей камеры спектрометра с установленным в нем образцом особо чистым инертным газом при 10–3–10–1 Па. Показано, что предложенный подход позволяет получить репрезентативные спектры поверхности образцов, свободной от адсорбированных частиц, загрязнений и примесей, без использования техники сверхвысокого вакуума и без разрушения поверхности образца; обеспечивает сравнительно быструю подготовку прибора к работе, а также возможность исследования образцов, разрушающихся в условиях сверхвысокого вакуума (кристаллогидраты, органические соединения) и при воздействии грубых методов очистки поверхности, таких как механическая чистка, значительный нагрев или ионное травление.