Электронно-опосредованные реакции при металлотермическом восстановлении оксидных соединений молибдена и вольфрама
- Авторы: Колосов В.Н.1, Орлов В.М.1
-
Учреждения:
- Институт химии и технологии редких элементов и минерального сырья им. И.В. Тананаева Кольского научного центра Российской Академии наук
- Выпуск: Том 484, № 4 (2019)
- Страницы: 447-450
- Раздел: Физическая химия
- URL: https://journals.eco-vector.com/0869-5652/article/view/12556
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0869-56524844447-450
- ID: 12556
Цитировать
Полный текст
Аннотация
Исследован процесс восстановления парами кальция кислородных соединений вольфрама и молибдена (WO3, MoO3, MgWO4, MgMoO4 и CaMoO4) при температуре 800–860°С и остаточном давлении аргона в реакторе 5–10 кПа. Как и при восстановлении парами магния, происходило наблюдавшееся ранее пространственное разделение продуктов реакционной массы — отложение основной массы образовавшегося оксида кальция вне зоны реакции. Особенностью восстановления MgWO4 и MgMoO4 является то, что вначале в них происходит замещение магния кальцием. Образующийся металлический магний служит восстановителем, оксид которого наряду с оксидом кальция образует корку на поверхности реакционной массы. Анализ полученных результатов свидетельствует, что процесс восстановления оксидных соединений парами магния и кальция при остаточном давлении аргона в реакторе более 5 кПа протекает по механизму электронно-опосредованной реакции без непосредственного физического контакта между реагирующими веществами.
Об авторах
В. Н. Колосов
Институт химии и технологии редких элементов и минерального сырья им. И.В. Тананаева Кольского научного центра Российской Академии наук
Автор, ответственный за переписку.
Email: tantal@chemy.kolasc.net.ru
Россия, 184209, Мурманская область, г. Апатиты, ул. Ферсмана, д. 14
В. М. Орлов
Институт химии и технологии редких элементов и минерального сырья им. И.В. Тананаева Кольского научного центра Российской Академии наук
Email: tantal@chemy.kolasc.net.ru
Россия, 184209, Мурманская область, г. Апатиты, ул. Ферсмана, д. 14.
Список литературы
- Okabe T.H., Sadoway D.R. // J. Materials Res. 1998. V. 13. № 12. P. 3372–3377.
- Park I., Okabe T.H., Waseda J. // J. Alloys and Compounds. 1998. V. 280. № 1/2. P. 265–272.
- Park I., Okabe T.H., Lee O.Y., Lee Ch.Y., Waseda J. // Materials Trans. 2002. V. 43. № 8. P. 2080–2086.
- Okabe T.H., Park I., Waseda J.Y. // J. Alloys and Compounds. 1999. V. 288. № 1/2. P. 200–210.
- Yoon J.S., Kim B.I. // Metals and Materials Intern. 2007. V. 13. № 2. P. 177–184.
- Рощин В.Е., Рощин А.В. // Металлы. 2013. № 2. С. 12–30.
- Орлов В.М., Колосов В.Н. // ДАН. 2016. Т. 468. № 3. С. 288–292.
- Müller R., Bobeth M., Brumm H., et al. // Int. J. Materials Res. 2007. V. 98. № 11. P. 1138–1145.
- Орлов В.М., Крыжанов М.В., Калинников В.Т. // ДАН. 2015. Т. 465. № 2. С. 182–185.
- Орлов В.М., Крыжанов М.В., Князева А.И. // Физикохимия поверхности и защита материалов. 2016. Т. 52. № 5. С. 500–504.
- Колосов В.Н., Мирошниченко М.Н., Орлов В.М. // Неорган. материалы. 2016. Т. 52. № 8. С. 845–852.
- Орлов В.М., Крыжанов М.В., Калинников В.Т. // ДАН. 2014. Т. 457. № 5. С. 555–558.
- Конышева Е.Ю., Нейман А.Я. // Электрохимия. 2002. Т. 38. № 4. С. 419–427.
- Кофстад П. Отклонение от стехиометрии, диффузия и электропроводность в простых оксидах металлов. М.: Мир, 1975. 336 с.
Дополнительные файлы
![](/img/style/loading.gif)