Формирование нановискеров наносекундным потоком релятивистских электронов в сферопластике, содержащем вольфрам

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Приводятся результаты экспериментальных исследований формирования нановискеров при воздействии релятивистских электронов наносекундной длительности на сферопластик, содержащий в своём составе вольфрам. Показано, что при однократном воздействии релятивистских электронов с плотностью потока 230-240 Дж/см2 и полной длительностью импульса 150 нс в сферопластике наблюдается разрушение микросфер диаметром более 40 мкм, на поверхности которых образуются нитевидные структуры длиной до 10 мкм и диаметром около 100 нм. Установлена сложная кинетика уноса вещества с облучаемой поверхности при скоростях разлёта газо-плазменных образований ∼13 км/с. Обнаружено, что нановискеры не формируются вблизи “кратера” выброса из сферопластика, где длительность механического импульса давления минимальна и близка к продолжительности действия релятивистских электронов.

Об авторах

Ю. М. Милёхин

Федеральный центр двойных технологий "Союз"

Email: soyuz@fcdt.ru

Академик РАН

Россия, 140090, г. Дзержинский, Московская область, ул. Академика Жукова, 42

Д. Н. Садовничий

Федеральный центр двойных технологий "Союз"

Автор, ответственный за переписку.
Email: soyuz@fcdt.ru
Россия, 140090, г. Дзержинский, Московская область, ул. Академика Жукова, 42

К. Ю. Шереметьев

Федеральный центр двойных технологий "Союз"

Email: soyuz@fcdt.ru
Россия, 140090, г. Дзержинский, Московская область, ул. Академика Жукова, 42

Ю. Г. Калинин

Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт"

Email: soyuz@fcdt.ru
Россия, 123182, г. Москва, пл. академика Курчатова, 1

Е. Д. Казаков

Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт"; Национальный исследовательский университет МЭИ

Email: soyuz@fcdt.ru
Россия, 123182, г. Москва, пл. академика Курчатова, 1; 111250, г. Москва, ул. Красноказарменная, 14

М. Б. Марков

"Федеральный исследовательский центр Институт прикладной математики имени М.В. Келдыша Российской академии наук"

Email: soyuz@fcdt.ru
Россия, 125047, г. Москва, Миусская пл., д.4

Список литературы

  1. Третьяков Ю. Д., Гудилин Е. А. // Успехи химии. 2009. Т. 78. № 9. С. 867-887.
  2. Дубровский В. Г., Цырлин Г. Э., Устинов В. М. // Физика и техника полупроводников. 2009. Т. 43. В. 12. С. 1586-1628.
  3. Сыркин В. Г. CVD метод. Химическое парофазное осаждение. М.: Наука, 2000. 496 с.
  4. Frigeri P., Seravalli L., Trevisi G., Franchi S. Comprehensive Semiconductor Science and Technology. V. 3. Materials, Preparation, and Properties. Amsterdam etc.: Elsevier, 2011. P. 480-522.
  5. Ананьев С. С., Багдасаров Г. А., Гасилов В. А. и др. // Физика плазмы. 2017. Т. 43. № 7. С. 608-615.
  6. Берлин А. А., Шутов Ф. А. Упрочненные газонаполненные пластмассы. М.: Химия, 1980. 224 с.
  7. Meng X.-F., Shen X.-Q., Liu W. // Appl. Surface Sci. 2012. V. 258. № 7. P. 2627-2631.
  8. Демидов Б. А., Ефремов В. П., Казаков Е. Д. и др. // Приборы и техника эксперимента. 2016. № 2. С. 96-99.
  9. Gupta N., Woldesenbet E. // J. Cellular Plastics. 2004. V. 40. P. 461-480.
  10. Сакович Г. В., Жарков А. С., Петров Е. А. // Рос. нанотехнологии. 2013. Т. 8. № 9/10. С. 11-20.
  11. Ремпель А. А. // Успехи химии. 2007. Т. 76. № 5. С. 474-500.
  12. Крауз В. И., Химченко Л. Н., Мялтон В. В. и др. // Физика плазмы. 2013. Т. 39. № 4. С. 326-332.
  13. Семенова А. А., Гудилин Е. А., Семенова И. А. и др. // ДАН. 2011. Т. 438. № 4. С. 490-493.
  14. Гафаров Б. Р., Ефремов В. П., Садовничий Д. Н. и др. // Хим. физика. 2001. Т. 20. № 4. С. 66-72.
  15. Будов В. В. // Пробл. прочности. 1991. № 5. С. 68-70.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Российская академия наук, 2019