LDMOS: новые разработки АО «НИИЭТ»

Обложка

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Доступ платный или только для подписчиков

Аннотация

Приводятся сведения об усовершенствованиях технологии LDMOS в АО «НИИЭТ», а также о разрабатываемых предприятием СВЧ-транзисторах, основанных на данной технологии и предназначенных для применения в телевизионной аппаратуре стандартов DVB-T / DVB-T2.

Полный текст

Доступ закрыт

Об авторах

Р. Алексеев

АО «НИИЭТ»

Автор, ответственный за переписку.
Email: redactor@electronics.ru

ведущий инженер

Россия

И. Семейкин

АО «НИИЭТ»

Email: redactor@electronics.ru

к. т. н., технический директор

Россия

А. Цоцорин

АО «НИИЭТ»

Email: redactor@electronics.ru

к. ф.-м. н., начальник отдела

Россия

П. Куршев

АО «НИИЭТ»

Email: redactor@electronics.ru

начальник лаборатории

Россия

Список литературы

  1. Combs A. Application Note AN-007: A Comparative Review of GaN, LDMOS, and GaAs for RF and Microwave Applications // NuWaves Engineering // https://nuwaves.com/wp-content/uploads/2020/08/AN-007-A-Comparative-Review-of-GaN-LDMOS-and-GaAs-for-RF-and-Microwave-Applications.pdf
  2. Joosting J.-P. Why LDMOS is the best technology for RF energy // eeNews Wireless. Technology News. 2018. June 21. // https://www.eenewseurope.com/en/why-ldmos-is-the-best-technology-for-rf-energy/
  3. Dhanyal H. R. et al. Miniaturized High-Efficiency Pulsed-Power Amplifier for Surveillance and Tracking Radar // 2020 5th International Conference on Computer and Communication Systems (ICCCS). – IEEE, 2020. PP. 840–843.
  4. Theeuwen S. et al. LDMOS technology for power amplifiers up to 12 GHz // 2018 13th European Microwave Integrated Circuits Conference (EuMIC). – IEEE, 2018. PP. 162–165.
  5. Алексеев Р., Цоцорин А., Черных М. Мощные СВЧ LDMOS-транзисторы для рабочих частот до 3 ГГц // ЭЛЕКТРОНИКА: Наука, Технология, Бизнес. 2020. № 4. С. 98–100.
  6. Алексеев Р., Куршев П., Цоцорин А. Влияние многослойного полевого электрода на степень выраженности эффекта квазинасыщения вольт-амперных характеристик мощных сверхвысокочастотных латеральных транзисторов // Физика и техника полупроводников. 2022. Т. 56. № 11. С. 1088–1092.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML
2. Рис. 1. Модель LDMOS-структуры с трехслойным ПЭ

Скачать (10KB)
3. Рис.2. Типовая система металлизации стокового пальца LDMOS-транзистора

4. Рис.3. Контактное окно, вытравленное в диэлектрическом слое толщиной порядка 1,5 мкм. Видно сужение дна окна

Скачать (20KB)
5. Рис.4. Распространение тепла вдоль кремниевой подложки: а – от единичного пальца; б – от нескольких разнесенных пальцев

Скачать (19KB)

© Алексеев Р., Семейкин И., Цоцорин А., Куршев П., 2023

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах