LDMOS: the new products by NIIET JSC

Мұқаба

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Рұқсат ақылы немесе тек жазылушылар үшін

Аннотация

The article provides information about LDMOS process improvements at NIIET JSC, as well as about new microwave transistors under development by the company which are based on this technology and designed for DVB-T / DVB-T2 TV equipment.

Толық мәтін

Рұқсат жабық

Авторлар туралы

R. Alekseev

АО «НИИЭТ»

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: redactor@electronics.ru

ведущий инженер

Ресей

I. Semeykin

АО «НИИЭТ»

Email: redactor@electronics.ru

к. т. н., технический директор

Ресей

A. Tsotsorin

АО «НИИЭТ»

Email: redactor@electronics.ru

к. ф.-м. н., начальник отдела

Ресей

P. Kurshev

АО «НИИЭТ»

Email: redactor@electronics.ru

начальник лаборатории

Ресей

Әдебиет тізімі

  1. Combs A. Application Note AN-007: A Comparative Review of GaN, LDMOS, and GaAs for RF and Microwave Applications // NuWaves Engineering // https://nuwaves.com/wp-content/uploads/2020/08/AN-007-A-Comparative-Review-of-GaN-LDMOS-and-GaAs-for-RF-and-Microwave-Applications.pdf
  2. Joosting J.-P. Why LDMOS is the best technology for RF energy // eeNews Wireless. Technology News. 2018. June 21. // https://www.eenewseurope.com/en/why-ldmos-is-the-best-technology-for-rf-energy/
  3. Dhanyal H. R. et al. Miniaturized High-Efficiency Pulsed-Power Amplifier for Surveillance and Tracking Radar // 2020 5th International Conference on Computer and Communication Systems (ICCCS). – IEEE, 2020. PP. 840–843.
  4. Theeuwen S. et al. LDMOS technology for power amplifiers up to 12 GHz // 2018 13th European Microwave Integrated Circuits Conference (EuMIC). – IEEE, 2018. PP. 162–165.
  5. Алексеев Р., Цоцорин А., Черных М. Мощные СВЧ LDMOS-транзисторы для рабочих частот до 3 ГГц // ЭЛЕКТРОНИКА: Наука, Технология, Бизнес. 2020. № 4. С. 98–100.
  6. Алексеев Р., Куршев П., Цоцорин А. Влияние многослойного полевого электрода на степень выраженности эффекта квазинасыщения вольт-амперных характеристик мощных сверхвысокочастотных латеральных транзисторов // Физика и техника полупроводников. 2022. Т. 56. № 11. С. 1088–1092.

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML
2. Fig.1. Model of LDMOS structure with three-layer PE

Жүктеу (10KB)
3. Fig.2. Typical metallization system for the stock finger of an LDMOS transistor

Жүктеу (9KB)
4. Fig.3. Contact window etched in a dielectric layer about 1.5 µm thick. The narrowing of the window bottom is visible

Жүктеу (20KB)
5. Fig.4. Heat propagation along the silicon substrate: a – from a single finger; b – from several fingers spaced apart

Жүктеу (19KB)

© Alekseev R., Semeykin I., Tsotsorin A., Kurshev P., 2023

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>