Микроэлектроника: развитие производственной базы, продажи оборудования и EUV-литография

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Доступ платный или только для подписчиков

Аннотация

Расширение применения ИС и других полупроводниковых приборов как в традиционных для них областях, так и в новых сферах способствует увеличению спроса на эти изделия. В свою очередь это ведет к расширению производственной базы и увеличению закупок оборудования для производства с использованием и перспективных процессов с минимальными проектными нормами, и более зрелых процессов. В сфере производства перспективных ИС расширяется применение EUV-литографии, ведутся работы по совершенствованию данной технологии.

Полный текст

Доступ закрыт

Об авторах

М. Макушин

НОБ «Военные науки и оборонная промышленность» БРЭ

Автор, ответственный за переписку.
Email: redactor@electronics.ru

научный редактор

Список литературы

  1. Davis S. Global 200mm Semiconductor Fab Capacity Projected to Surge 20% to Record High by 2025, SEMI Reports // Semiconductor Digest, October 18, 2022.
  2. Davis S. Global 300mm Semiconductor Fab Capacity Projected To Reach New High in 2025, SEMI Reports // Semiconductor Digest, October 11, 2022.
  3. Davis S. Global Chip Industry Projected to Invest More Than $500 Billion in New Factories by 2024, SEMI Reports // Semiconductor Digest. December 12, 2022.
  4. Макушин М. Рынок технологического оборудования, проблемы EUV-литографии и перспективных методов корпусирования // ЭЛЕКТРОНИКА: Наука, Технология, Бизнес. 2022. № 5 (00216). С. 30–41.
  5. Davis S. Global Total Semiconductor Equipment Sales Forecast to Reach Record High in 2022, SEMI Reports // Semiconductor Digest/ December 13, 2022.
  6. Макушин М., Мартынов В. Производственные технологии микроэлектроники: проблемы развития. Часть 2 // ЭЛЕКТРОНИКА: Наука, Технология, Бизнес. 2020. № 4 (00195). С. 76–88.
  7. Shannon Davis. Imec Ramps Up the Development of the High-NA EUV Patterning Ecosystem. Semiconductor Digest. April 26. 2022.
  8. Derbyshire K. New Challenges Emerge With High-NA EUV // Semiconductor Engineering, March 16th, 2023.
  9. Davis S. Applied Materials’ New eBeam Metrology System Paves the Way to High-NA EUV Lithography // Semiconductor Digest. March 7, 2023.
  10. Davis S. Applied Materials’ Pattern-Shaping Technology Reduces the Cost, Complexity and Environmental Impact of Advanced Chip Manufacturing // Semiconductor Digest. March 9, 2023.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML
2. Рис. 1. Количество и мощность заводов по обработке 200-мм пластин (начальные этапы обработки пластин, исключая обработку эпитаксиальных пластин)

Скачать (21KB)
3. Рис. 2. Динамика роста мощности заводов по обработке 300-мм пластин (начальные этапы обработки пластин)

Скачать (22KB)
4. Рис. 3. Прогноз структуры продаж полупроводникового оборудования

Скачать (20KB)
5. Рис. 4. Прогноз структуры продаж оборудования заводов по обработке пластин с точки зрения их специализации

Скачать (19KB)

© Макушин М., 2023

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах