Ni/Al2O3-порошки для новых металл-диэлектрических варисторных структур

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Доступ платный или только для подписчиков

Аннотация

Рассматривается технология получения металл-диэлектрических варисторных структур на базе металлических Ni-порошков, покрытых тонким слоем диэлектрика Al2O3. Диэлектрическое покрытие формировалось методом атомно-слоевого осаждения.

Полный текст

Доступ закрыт

Об авторах

Д. Абрамкин

Институт физики полупроводников СО РАН; АО «Новосибирский завод радиодеталей «Оксид»

Автор, ответственный за переписку.
Email: dalamber.07@mail.ru

к.ф.-м.н.

Россия, 630090, г. Новосибирск, пр. Лаврентьева, 13; 630102, г. Новосибирск, ул. Кирова, 82

В. Селезнев

Институт физики полупроводников СО РАН

Email: dalamber.07@mail.ru

к.ф.-м.н.

Россия, 630090, г. Новосибирск, пр. Лаврентьева, 13

А. Петров

Институт физики полупроводников СО РАН

Email: dalamber.07@mail.ru

к.ф.-м.н.

Россия, 630090, г. Новосибирск, пр. Лаврентьева, 13

В. Вдовин

Институт физики полупроводников СО РАН

Email: dalamber.07@mail.ru

к.ф.-м.н.

Россия, 630090, г. Новосибирск, пр. Лаврентьева, 13

Ю. Живодков

Институт физики полупроводников СО РАН

Email: dalamber.07@mail.ru
Россия, 630090, г. Новосибирск, пр. Лаврентьева, 13

Д. Клименко

АО «Новосибирский завод радиодеталей «Оксид»

Email: dalamber.07@mail.ru

к.т.н.

Россия, 630102, г. Новосибирск, ул. Кирова, 82

Список литературы

  1. Liu J., Chen Y., Cui Y., Han Ch., Zhang Ch., Fan Y., Liang Ch. Influences of sintering process on (Bi2O3–V2O5–Mn3O4–Y2O3–Co2O3–Cr2O3)-doped ZnO varistors. J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 2017. 28. 2015–2022.
  2. Reynolds D.C., Look D.C., Jogai B., Litton C.W., Collins T.C., Harsh W., Cantwell G. Neutral-donor-bound-exciton complexes in ZnO crystals. Phys. Rev. B. 1998, 57, 12151–12155.
  3. Clarke D.R. Varistor Ceramics // J. Am. Ceram. Soc. 1999. 82. 485-502.
  4. Krivanek O.L., Williams P., Lin Y.Ch. Direct observation of voltage barriers in ZnO varistors // Appl. Phys. Lett. 1979. 34. 805–806.
  5. Weimer M.A., Hakim L.F., King D.M., Liang X., Weimer A.W., George S.M., Li P., Groner M.D. Ultrafast metal-insulator varistors based on tunable Al2O3 tunnel junctions // Appl. Phys. Lett. 2008. 92. 164101–164104.
  6. Weimer M.A., Weimer A.W., Park W. Theory of conduction in ultrafast metal-insulator varistors // J. Appl. Phys. 2008. 104. 114516–114523.
  7. Kim S., Lee S.H., Jo I.H., Seo J., Yoo Y.E., Kim J.H. Influence of growth temperature on dielectric strength of Al2O3 thin films prepared via atomic layer deposition at low temperature // Scientific Reports. 2022. 12. 5124–5129.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML
2. Рис. 1. Схематичное изображение зонной диаграммы вблизи границы зерен МОВ на базе ZnO: а – при нулевом смещении; б – при смещении V в расчете на одну границу. Изображения взяты в работе [3]

Скачать (89KB)
3. Рис. 2. Схематичные зонные диаграммы места соприкосновения Ni/Al2O3 зерен в МДВ-структуре: а – при малом приложенном смещении eU < W; б – при большом приложенном смещении eU > W

Скачать (63KB)
4. Рис. 3. АСМ-изображения, снятые с участка 10 × 10 мкм2 (а) и 1 × 1 мкм2 (б), поверхности слоя Ni толщиной 300 нм, выращенного методом магнетронного распыления. Профили (в) и (г) измерены вдоль зеленых линий на АСМ-изображениях (a) и (б), соответственно

Скачать (338KB)
5. Рис. 4. АСМ-изображения, снятые с участка 10 × 10 мкм2 (а) и 1 × 1 мкм2 (б), слоя Al2O3 толщиной 45 нм, выращенного методом АСО. Профили (в) и (г) измерены вдоль зеленых линий на АСМ-изображениях (a) и (б), соответственно

Скачать (316KB)
6. Рис. 5. СЭМ-изображение поперечного среза Ni/Al2O3/Ni-структуры

Скачать (87KB)
7. Рис. 6. СЭМ-изображение среза зерен порошка Ni с Al2O3-покрытием

Скачать (86KB)
8. Рис. 7. Пространственные распределения элементов (слева направо): O, Al и Ni по поверхности среза зерна Ni-порошка с Al2O3-покрытием

Скачать (63KB)

© Абрамкин Д., Селезнев В., Петров А., Вдовин В., Живодков Ю., Клименко Д., 2025