Обработка оптических кристаллов и светодиодов в плазме тлеющего разряда
- Авторы: Богачев М.А.1,2, Васильев Д.Д.1,2, Моисеев К.М.1,2, Назаренко М.В.1,3
-
Учреждения:
- ООО «Джиэнтех»
- МГТУ им. Н. Э. Баумана
- РТУ МИРЭА
- Выпуск: Том 17, № 2 (2023)
- Страницы: 108-113
- Раздел: Технологии и технологическое оборудование
- URL: https://journals.eco-vector.com/1993-7296/article/view/627296
- DOI: https://doi.org/10.22184/1993-7296.FRos.2023.17.2.108.112
- ID: 627296
Цитировать
Полный текст
Доступ предоставлен
Доступ платный или только для подписчиков
Аннотация
Обработка в плазме тлеющего разряда все активнее применяется для очистки поверхностей материалов от загрязнений, уменьшения шероховатости поверхности, повышения поверхностной энергии и модификации поверхности. В статье приведены результаты обработки в плазме высокочастотного и низкочастотного газового разряда в установке плазменной обработки MPC RF-12 дисков оптических кристаллов и кассет твердотельных светодиодов. Оценено влияние параметров и режимов плазменной обработки, а именно мощности, времени и типа рабочего газа, на качество обработки. Показано, что плазменная обработка является мощным инструментом влияния на свойства поверхности оптических кристаллов, эффективна для удаления оксидных слоев металлов и безопасна для клеевых соединений кристаллов с основанием.
Полный текст
Об авторах
Максим Андреевич Богачев
ООО «Джиэнтех»; МГТУ им. Н. Э. Баумана
Email: journal@electronics.ru
ORCID iD: 0000-0001-6580-0103
магистр 1 года кафедры «Электронные технологии в машиностроении» ; инженер-конструктор
Россия, Москва; МоскваДенис Дмитриевич Васильев
ООО «Джиэнтех»; МГТУ им. Н. Э. Баумана
Email: journal@electronics.ru
ORCID iD: 0000-0003-2147-4216
к. т. н., доцент кафедры «Электронные технологии в машиностроении»; ведущий инженер
Россия, Москва; МоскваКонстантин Михайлович Моисеев
ООО «Джиэнтех»; МГТУ им. Н. Э. Баумана
Email: journal@electronics.ru
к. т. н., доцент кафедры «Электронные технологии в машиностроении»; технический директор
Россия, Москва; МоскваМария Владимировна Назаренко
ООО «Джиэнтех»; РТУ МИРЭА
Автор, ответственный за переписку.
Email: journal@electronics.ru
ORCID iD: 0000-0002-8753-7737
аспирант кафедры наноэлектроники; инженер-технолог
Россия, Москва; МоскваСписок литературы
- Kovsh I. B. Photonics in Russia: State & Challenges. Part I. Photonics Russia. 2019;13(2):130–141. doi: 10.22184/1993-7296.FRos.2019.13.2.130.141.
- Segev M., Bandres M. A. Topological photonics: Where do we go from here? Nanophotonics. 2021;10(1):425–434. doi: 10.1515/nanoph-2020-0441.
- Wu Y., Li C., Hu X., Ao Y., Zhao Y., Gong Q. Applications of topological photonics in integrated photonic devices. Advanced Optical Materials. 2017;5(18): 1700357. doi: 10.1002/adom.201700357.
- Pelucchi E., Fagas G., Aharonovich I., Englund, D, Figueroa E., Gong Q. et al. The potential and global outlook of integrated photonics for quantum technologies. Nature Reviews Physics. 2022;4(3):194–208. doi: 10.1038/s42254-021-00398-z.
- Singh M., Weidner K. Types and performance of high performing multi-mode polymer waveguides for optical interconnects/ In book: Optical Interconnects for Data Centers. Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials. 2017;157–170. doi: 10.1016/B978-0-08-100512-5.00006-1.
- Kachura S. M., Postnov V. I. Perspektivnye optovolokonnye datchiki i ih primenenie (obzor). Trudy VIAM. 2019; 5 (77). (In Russ.). Качура С. М., Постнов В. И. Перспективные оптоволоконные датчики и их применение (обзор). Труды ВИАМ. 2019; 5 (77).
- Miftahov I. S., Voznesenskij E. F., Abdullin I. Sh., Fadeev A. O., Gataullin L. Primenenie plazmy VCh-razryada ponizhennogo davleniya v processah polirovki opticheskih materialov polikristallicheskogo stroeniya. Vestnik Kazanskogo tekhnologicheskogo universiteta. 2015; 11. (In Russ.). Мифтахов И. С., Вознесенский Э. Ф., Абдуллин И. Ш., Фадеев А. О., Гатауллин Л. Применение плазмы ВЧ-разряда пониженного давления в процессах полировки оптических материалов поликристаллического строения. Вестник Казанского технологического университета. 2015;11.
- Gribenyukov A. I., Voevodin V. I. Influence of the preparation conditions on optical properties of single crystals ZnGeP2 in THz range // J. Phys. Conf. Ser. – 2018. – № 1115. – P. 052030.
- Gerhard C., Stappenbeck M. Impact of the Polishing Suspension Concentration on Laser Damage of Classically Manufactured and Plasma Post-Processed Zinc Crown Glass Surfaces. Appl. Sci. 2018, 8, 1556. https://doi.org/10.3390/app8091556.
- Vasiliev A. Osobennosti tekhnologii proizvodstva svetodiodnyh svetil’nikov. Sovremennaya svetotekhnika. 2010;5. (In Russ). Васильев А. Особенности технологии производства светодиодных светильников. Современная светотехника. 2010;5.
- Belyaev V. Tverdotel’nye i organicheskie mikrosvetodiody – tekhnologiya, rynok, perspektivy. Elektronika: Nauka, tekhnologiya, biznes. 2018; 8. doi: 10.22184/1992-4178.2018.179.8.102.112. (In Russ). Беляев В. Твердотельные и органические микросветодиоды – технология, рынок, перспективы.Электроника: Наука, технология, бизнес. 2018; 8. doi: 10.22184/1992-4178.2018.179.8.102.112.
- Moiseev K. M., Vasiliev D. D., Mikhailova I. V., Vorobev I. A. Development of Plasma Processing Systems for Optics and Electronics Products. Photonics Russia. 2022;16(2):136–141. doi: 10.22184/1993-7296.FRos.2022.16.2.136.140.