Пайдаланушы

Пайдаланушының аты
Құпиясөз
Мені есте сақтау
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба?	Тіркеу

Хабарламалар

• Қарау
• Тіркелу

Іздеу

Іздеу

Іздеу аумағы Барлығы Авторлар Атауы Түйіндеме Терминдер Толық мәтін

Парақтау

• шығарылымдар
• авторлар
• атаулары бойынша
• бөлімдер бойынша
• басқа журналдар
• Категориялар

Ақпарат

• Оқырмандар үшін
• Авторларға
• Кітапханалар үшін

Жазылу Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз

Кілтсөздер Förster effect atomic layer deposition charge qubit dissociation etching fluorine atoms fluorocarbon gases gas temperature ionization kinetics magnetron sputtering mechanism memristor modeling molecular beam epitaxy plasma polymerization quantum dot reduced electric field strength resistive switching silicon

Ағымдағы шығарылым

Том 54, № 2 (2025)