Minifabs in microelectronics: History and opportunities

Cover Page

Cite item

Full Text

Open Access Open Access
Restricted Access Access granted
Restricted Access Subscription or Fee Access

Abstract

Recently, a number of minifab projects for microelectronic production have been created in Russia and abroad. The article considers the concept of minifabs and the prospects for
implementing projects in this area.

Full Text

Restricted Access

About the authors

A. Khisamov

Группа компаний «Стратегические Нанотехнологии»

Author for correspondence.
Email: redactor@electronics.ru

директор по развитию техники и технологии

Russian Federation

A. Nazarenko

Группа компаний «Стратегические Нанотехнологии»

Email: redactor@electronics.ru

генеральный директор

Russian Federation

References

  1. Industries of the Future Institutes: A New Model for American Science and Technology Leadership. A report to the President of the United States of America // The President’s Council of Advisors on Science and Technology. 2021.
  2. Study on the Electronics Ecosystem: Overview, Developments and Europe“s Position in the World // Decision. 2020.
  3. Шиллер В., Шпак В. Независимость российской электроники от импорта – необходима и возможна // ЭЛЕКТРОНИКА: Наука, Технология, Бизнес. 2016. № 6.
  4. Mini versus mega // https://www.edn.com/mini-versus-mega/.
  5. Minifabs would suit UK, says DTI // https://www.electronicsweekly.com/news/research-news/process-rd/minifabs-would-suit-uk-says-dti-2005-05/.
  6. Велихов Е., Валиев К., Бетелин В. 0,35-мкм КМОП-процесс в России – в 2004 году // ЭЛЕКТРОНИКА: Наука, Технология, Бизнес. 2004. № 3.
  7. https://www.futrfab.com.
  8. https://minimalfab.ru.
  9. Хисамов А. СТО нового формата для малых полупроводниковых производств как путь конкурентоспособного развития микроэлектроники в РФ // Материалы 5-й Международной научной конференции «Электронная компонентная база и микроэлектронные модули». Международный форум «Микроэлектроника 2019». М.: ТЕХНОСФЕРА. 2019. С. 519–524.
  10. Технологии для высокоэффективных процессов электронной литографии // https://www.osp.ru/netcat_files/18/10/05_Tehnologii_dlya_vysokoeffektivnyh_protsessov_elektronnoy_litografii.pdf.

Supplementary files

Supplementary Files
Action
1. JATS XML
2. Fig. 1. Nanofab-100 concept [10]

Download (34KB)
3. Fig. 2. Concept of the Futrfab project [7]

Download (21KB)
4. Fig. 3. Minimal Fab project [8]

Download (68KB)
5. Fig. 4. Comparative profiles of the three production concepts

Download (22KB)
6. Fig. 5. Germicon container

Download (15KB)
7. Fig. 6. Aura Series introduced defect control unit

Download (6KB)
8. Fig. 7. Vega series photoresist etching unit

Download (8KB)
9. Fig. 8. Feba series physical deposition unit for multilayer structures with robotic cassette loading and unloading module

Download (12KB)

Copyright (c) 2024 Khisamov A., Nazarenko A.