Minifabs in microelectronics: History and opportunities

封面

如何引用文章

全文:

开放存取 开放存取
受限制的访问 ##reader.subscriptionAccessGranted##
受限制的访问 订阅或者付费存取

详细

Recently, a number of minifab projects for microelectronic production have been created in Russia and abroad. The article considers the concept of minifabs and the prospects for
implementing projects in this area.

全文:

受限制的访问

作者简介

A. Khisamov

Группа компаний «Стратегические Нанотехнологии»

编辑信件的主要联系方式.
Email: redactor@electronics.ru

директор по развитию техники и технологии

俄罗斯联邦

A. Nazarenko

Группа компаний «Стратегические Нанотехнологии»

Email: redactor@electronics.ru

генеральный директор

俄罗斯联邦

参考

  1. Industries of the Future Institutes: A New Model for American Science and Technology Leadership. A report to the President of the United States of America // The President’s Council of Advisors on Science and Technology. 2021.
  2. Study on the Electronics Ecosystem: Overview, Developments and Europe“s Position in the World // Decision. 2020.
  3. Шиллер В., Шпак В. Независимость российской электроники от импорта – необходима и возможна // ЭЛЕКТРОНИКА: Наука, Технология, Бизнес. 2016. № 6.
  4. Mini versus mega // https://www.edn.com/mini-versus-mega/.
  5. Minifabs would suit UK, says DTI // https://www.electronicsweekly.com/news/research-news/process-rd/minifabs-would-suit-uk-says-dti-2005-05/.
  6. Велихов Е., Валиев К., Бетелин В. 0,35-мкм КМОП-процесс в России – в 2004 году // ЭЛЕКТРОНИКА: Наука, Технология, Бизнес. 2004. № 3.
  7. https://www.futrfab.com.
  8. https://minimalfab.ru.
  9. Хисамов А. СТО нового формата для малых полупроводниковых производств как путь конкурентоспособного развития микроэлектроники в РФ // Материалы 5-й Международной научной конференции «Электронная компонентная база и микроэлектронные модули». Международный форум «Микроэлектроника 2019». М.: ТЕХНОСФЕРА. 2019. С. 519–524.
  10. Технологии для высокоэффективных процессов электронной литографии // https://www.osp.ru/netcat_files/18/10/05_Tehnologii_dlya_vysokoeffektivnyh_protsessov_elektronnoy_litografii.pdf.

补充文件

附件文件
动作
1. JATS XML
2. Fig. 1. Nanofab-100 concept [10]

下载 (34KB)
3. Fig. 2. Concept of the Futrfab project [7]

下载 (21KB)
4. Fig. 3. Minimal Fab project [8]

下载 (68KB)
5. Fig. 4. Comparative profiles of the three production concepts

下载 (22KB)
6. Fig. 5. Germicon container

下载 (15KB)
7. Fig. 6. Aura Series introduced defect control unit

下载 (6KB)
8. Fig. 7. Vega series photoresist etching unit

下载 (8KB)
9. Fig. 8. Feba series physical deposition unit for multilayer structures with robotic cassette loading and unloading module

下载 (12KB)

版权所有 © Khisamov A., Nazarenko A., 2024