Minifabs in microelectronics: History and opportunities

Мұқаба

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Рұқсат ақылы немесе тек жазылушылар үшін

Аннотация

Recently, a number of minifab projects for microelectronic production have been created in Russia and abroad. The article considers the concept of minifabs and the prospects for
implementing projects in this area.

Толық мәтін

Рұқсат жабық

Авторлар туралы

A. Khisamov

Группа компаний «Стратегические Нанотехнологии»

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: redactor@electronics.ru

директор по развитию техники и технологии

Ресей

A. Nazarenko

Группа компаний «Стратегические Нанотехнологии»

Email: redactor@electronics.ru

генеральный директор

Ресей

Әдебиет тізімі

  1. Industries of the Future Institutes: A New Model for American Science and Technology Leadership. A report to the President of the United States of America // The President’s Council of Advisors on Science and Technology. 2021.
  2. Study on the Electronics Ecosystem: Overview, Developments and Europe“s Position in the World // Decision. 2020.
  3. Шиллер В., Шпак В. Независимость российской электроники от импорта – необходима и возможна // ЭЛЕКТРОНИКА: Наука, Технология, Бизнес. 2016. № 6.
  4. Mini versus mega // https://www.edn.com/mini-versus-mega/.
  5. Minifabs would suit UK, says DTI // https://www.electronicsweekly.com/news/research-news/process-rd/minifabs-would-suit-uk-says-dti-2005-05/.
  6. Велихов Е., Валиев К., Бетелин В. 0,35-мкм КМОП-процесс в России – в 2004 году // ЭЛЕКТРОНИКА: Наука, Технология, Бизнес. 2004. № 3.
  7. https://www.futrfab.com.
  8. https://minimalfab.ru.
  9. Хисамов А. СТО нового формата для малых полупроводниковых производств как путь конкурентоспособного развития микроэлектроники в РФ // Материалы 5-й Международной научной конференции «Электронная компонентная база и микроэлектронные модули». Международный форум «Микроэлектроника 2019». М.: ТЕХНОСФЕРА. 2019. С. 519–524.
  10. Технологии для высокоэффективных процессов электронной литографии // https://www.osp.ru/netcat_files/18/10/05_Tehnologii_dlya_vysokoeffektivnyh_protsessov_elektronnoy_litografii.pdf.

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML
2. Fig. 1. Nanofab-100 concept [10]

Жүктеу (34KB)
3. Fig. 2. Concept of the Futrfab project [7]

Жүктеу (21KB)
4. Fig. 3. Minimal Fab project [8]

Жүктеу (68KB)
5. Fig. 4. Comparative profiles of the three production concepts

Жүктеу (22KB)
6. Fig. 5. Germicon container

Жүктеу (15KB)
7. Fig. 6. Aura Series introduced defect control unit

Жүктеу (6KB)
8. Fig. 7. Vega series photoresist etching unit

Жүктеу (8KB)
9. Fig. 8. Feba series physical deposition unit for multilayer structures with robotic cassette loading and unloading module

Жүктеу (12KB)

© Khisamov A., Nazarenko A., 2024