Email this article Stability and reproducibility evaluation of the technological process of metallization through a removable mask
- Authors: Pochtar O.1, Pochtar A.1
-
Affiliations:
- АО «УПКБ «Деталь»
- Issue: No 2 (223) (2023)
- Pages: 72-76
- Section: Manufacturing technologies
- URL: https://journals.eco-vector.com/1992-4178/article/view/629202
- DOI: https://doi.org/10.22184/1992-4178.2023.223.2.72.76
- ID: 629202
Cite item
Open Access
Access granted
Abstract
Based on statistical processing of experimental data, the article presents the stability and reproducibility evaluation of the technological process of two-layer metallization of lithium niobate crystals through a metal removable mask by electron beam evaporation.
Full Text
About the authors
O. Pochtar
АО «УПКБ «Деталь»
Author for correspondence.
Email: oleg_p20@mail.ru
инженер-технолог 3 категории – руководитель группы
Russian FederationA. Pochtar
АО «УПКБ «Деталь»
Email: ananpochtar@gmail.com
начальник сектора
Russian FederationReferences
- Иванов А., Смирнов Б. Электронно-лучевое напыление: технология и оборудование // НАНОИНДУСТРИЯ. 2012. № 6 (36). С. 28–34.
- Локтев Д. А. Статистическое управление производственными процессами – ключ к успеху современного промышленного предприятия // Известия МГТУ «МАМИ». 2014. № 1(19), т. 2. С. 128–136.
- Уилер Д., Чамберс Д. Статистическое управление процессами. Оптимизация бизнеса с использованием контрольных карт Шухарта / Пер. с англ., 2-е изд. М.: Альпина Паблишер, 2016. 582 с.
- ГОСТ Р ИСО 7870-2-2015. Статистические методы. Контрольные карты Шухарта. Ч. 2. М., 2015. 46 с.
Supplementary files
Supplementary Files
Action
1.
JATS XML
2.
Fig.1. The end surface of a crystal with a formed metallization topology
Download (10KB)
3.
Fig.2. Scheme of the crystal metallization process through a free mask (not to scale)
Download (16KB)
4.
Fig.3. Shewhart control chart with designated control limits for the amount of dust on one side of the gap: A – limits ±3σ; B – limits ±2σ; C – limits ±σ; MO – mathematical expectation
Download (25KB)
5.
Fig.4. Shewhart control chart with designated control limits for the modulus of the sliding range of the amount of dust deposited on one side of the gap: A – limits ±3σ; B – limits ±2σ; C – limits ±σ; MO – mathematical expectation
Download (25KB)
6.
Fig.5. Shewhart control charts for individual gap width values with designated control limits: UNPLx – upper control limit; CLx – central line (mathematical expectation); LNPLx – lower control limit
Download (28KB)
