Мақаланы E-mail арқылы жіберу Stability and reproducibility evaluation of the technological process of metallization through a removable mask
- Авторлар: Pochtar O.1, Pochtar A.1
-
Мекемелер:
- АО «УПКБ «Деталь»
- Шығарылым: № 2 (2023)
- Беттер: 72-76
- Бөлім: Manufacturing technologies
- URL: https://journals.eco-vector.com/1992-4178/article/view/629202
- DOI: https://doi.org/10.22184/1992-4178.2023.223.2.72.76
- ID: 629202
Дәйексөз келтіру
Ашық рұқсат
Рұқсат берілді
Аннотация
Based on statistical processing of experimental data, the article presents the stability and reproducibility evaluation of the technological process of two-layer metallization of lithium niobate crystals through a metal removable mask by electron beam evaporation.
Толық мәтін
Авторлар туралы
O. Pochtar
АО «УПКБ «Деталь»
Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: oleg_p20@mail.ru
инженер-технолог 3 категории – руководитель группы
РесейA. Pochtar
АО «УПКБ «Деталь»
Email: ananpochtar@gmail.com
начальник сектора
РесейӘдебиет тізімі
- Иванов А., Смирнов Б. Электронно-лучевое напыление: технология и оборудование // НАНОИНДУСТРИЯ. 2012. № 6 (36). С. 28–34.
- Локтев Д. А. Статистическое управление производственными процессами – ключ к успеху современного промышленного предприятия // Известия МГТУ «МАМИ». 2014. № 1(19), т. 2. С. 128–136.
- Уилер Д., Чамберс Д. Статистическое управление процессами. Оптимизация бизнеса с использованием контрольных карт Шухарта / Пер. с англ., 2-е изд. М.: Альпина Паблишер, 2016. 582 с.
- ГОСТ Р ИСО 7870-2-2015. Статистические методы. Контрольные карты Шухарта. Ч. 2. М., 2015. 46 с.
Қосымша файлдар
Қосымша файлдар
Әрекет
1.
JATS XML
2.
Fig.1. The end surface of a crystal with a formed metallization topology
Жүктеу (10KB)
3.
Fig.2. Scheme of the crystal metallization process through a free mask (not to scale)
Жүктеу (16KB)
4.
Fig.3. Shewhart control chart with designated control limits for the amount of dust on one side of the gap: A – limits ±3σ; B – limits ±2σ; C – limits ±σ; MO – mathematical expectation
Жүктеу (25KB)
5.
Fig.4. Shewhart control chart with designated control limits for the modulus of the sliding range of the amount of dust deposited on one side of the gap: A – limits ±3σ; B – limits ±2σ; C – limits ±σ; MO – mathematical expectation
Жүктеу (25KB)
6.
Fig.5. Shewhart control charts for individual gap width values with designated control limits: UNPLx – upper control limit; CLx – central line (mathematical expectation); LNPLx – lower control limit
Жүктеу (28KB)
