Enviar artigo por via de e-mail Stability and reproducibility evaluation of the technological process of metallization through a removable mask
- Autores: Pochtar O.1, Pochtar A.1
-
Afiliações:
- АО «УПКБ «Деталь»
- Edição: Nº 2 (223) (2023)
- Páginas: 72-76
- Seção: Manufacturing technologies
- URL: https://journals.eco-vector.com/1992-4178/article/view/629202
- DOI: https://doi.org/10.22184/1992-4178.2023.223.2.72.76
- ID: 629202
Citar
Texto integral
Acesso aberto
Acesso está concedido
Acesso é pago ou somente para assinantes
Resumo
Based on statistical processing of experimental data, the article presents the stability and reproducibility evaluation of the technological process of two-layer metallization of lithium niobate crystals through a metal removable mask by electron beam evaporation.
Texto integral
Sobre autores
O. Pochtar
АО «УПКБ «Деталь»
Autor responsável pela correspondência
Email: oleg_p20@mail.ru
инженер-технолог 3 категории – руководитель группы
RússiaA. Pochtar
АО «УПКБ «Деталь»
Email: ananpochtar@gmail.com
начальник сектора
RússiaBibliografia
- Иванов А., Смирнов Б. Электронно-лучевое напыление: технология и оборудование // НАНОИНДУСТРИЯ. 2012. № 6 (36). С. 28–34.
- Локтев Д. А. Статистическое управление производственными процессами – ключ к успеху современного промышленного предприятия // Известия МГТУ «МАМИ». 2014. № 1(19), т. 2. С. 128–136.
- Уилер Д., Чамберс Д. Статистическое управление процессами. Оптимизация бизнеса с использованием контрольных карт Шухарта / Пер. с англ., 2-е изд. М.: Альпина Паблишер, 2016. 582 с.
- ГОСТ Р ИСО 7870-2-2015. Статистические методы. Контрольные карты Шухарта. Ч. 2. М., 2015. 46 с.
Arquivos suplementares
Arquivos suplementares
Ação
1.
JATS XML
2.
Fig.1. The end surface of a crystal with a formed metallization topology
Baixar (10KB)
3.
Fig.2. Scheme of the crystal metallization process through a free mask (not to scale)
Baixar (16KB)
4.
Fig.3. Shewhart control chart with designated control limits for the amount of dust on one side of the gap: A – limits ±3σ; B – limits ±2σ; C – limits ±σ; MO – mathematical expectation
Baixar (25KB)
5.
Fig.4. Shewhart control chart with designated control limits for the modulus of the sliding range of the amount of dust deposited on one side of the gap: A – limits ±3σ; B – limits ±2σ; C – limits ±σ; MO – mathematical expectation
Baixar (25KB)
6.
Fig.5. Shewhart control charts for individual gap width values with designated control limits: UNPLx – upper control limit; CLx – central line (mathematical expectation); LNPLx – lower control limit
Baixar (28KB)
