Отправить статью по E-mail Спреевое нанесение фоторезиста для создания равномерной пленки в полостях
- Авторы: Иванов В.1
-
Учреждения:
- ООО «ТТМ»
- Выпуск: № 7 (2024)
- Страницы: 182-188
- Раздел: Производственные технологии
- URL: https://journals.eco-vector.com/1992-4178/article/view/636203
- DOI: https://doi.org/10.22184/1992-4178.2024.238.7.182.188
- ID: 636203
Цитировать
Полный текст
Открытый доступ
Доступ предоставлен
Доступ платный или только для подписчиков
Аннотация
Исследовался метод получения покрытий с помощью системы спреевого нанесения, были оптимизированы параметры процессов, такие как скорость вращения столика, скорость перемещения форсунки, поток смеси, угол наклона форсунки и т.д.
Ключевые слова
Полный текст
Об авторах
В. Иванов
ООО «ТТМ»
Автор, ответственный за переписку.
Email: vi@ttmicro.ru
начальник технического отдела
РоссияСписок литературы
- Duk-Soo Eun, Do-Wok Kim et al. Photoresist Spray Coating for Resist Film Performance of Deep Silicon Cavities // Journal of the Korean Physical Society. Vol. 50. No. 6. June 2007. PP. 1947–1951.
- Tonnies D. Spray coating & lithography technology for 3D topological structures // 5th SECAP seminare. Nov. 2004.
- Pham, N.P. et al. Spray coating of photoresist for pattern transfer on high topography surfaces // J. Micromech. Microeng. 15 (2005). PP. 691–697.
- Park H. et al. Design and Fabrication of the Double-Sided Silicon Microstrip Sensor // J. Korean Phys. Soc. 49. 1401 (2006).
Дополнительные файлы
Доп. файлы
Действие
1.
JATS XML
2.
Рис. 1. Принципиальная схема спреевого нанесения фоторезиста
Скачать (212KB)
3.
Рис. 2. Проблемы при нанесении фоторезиста в полости методом центрифугирования (а), равномерное покрытие полости слоем фоторезиста при спреевом нанесении (б)
Скачать (763KB)
4.
Рис. 3. Схема основного модуля установки спреевого нанесения фоторезиста
Скачать (880KB)
5.
Рис. 4. Разделение пластины на девять участков для измерений толщины фоторезиста (а), толщина фоторезиста при различных скоростях перемещения форсунки при скорости вращения столика 30 об/мин (б)
Скачать (261KB)
6.
Рис. 5. Измерение толщины слоя фоторезиста с помощью СЭМ на поперечном сечении угла полости (а), поперечном сечении дна полости (б)
Скачать (440KB)
7.
Рис. 6. Измерение толщины слоя фоторезиста с помощью СЭМ на пластине (а), поперечном сечении угла полости (б), поперечном сечении дна полости (в)
Скачать (800KB)
8.
Рис. 7. Оптические детали с нанесенным покрытием
Скачать (620KB)
9.
Рис. 8. Пластиковая деталь с нанесенным защитным покрытием
Скачать (784KB)
