电邮这篇文章 Stability and reproducibility evaluation of the technological process of metallization through a removable mask
- 作者: Pochtar O.1, Pochtar A.1
-
隶属关系:
- АО «УПКБ «Деталь»
- 期: 编号 2 (223) (2023)
- 页面: 72-76
- 栏目: Manufacturing technologies
- URL: https://journals.eco-vector.com/1992-4178/article/view/629202
- DOI: https://doi.org/10.22184/1992-4178.2023.223.2.72.76
- ID: 629202
如何引用文章
开放存取
##reader.subscriptionAccessGranted##
详细
Based on statistical processing of experimental data, the article presents the stability and reproducibility evaluation of the technological process of two-layer metallization of lithium niobate crystals through a metal removable mask by electron beam evaporation.
全文:
作者简介
O. Pochtar
АО «УПКБ «Деталь»
编辑信件的主要联系方式.
Email: oleg_p20@mail.ru
инженер-технолог 3 категории – руководитель группы
俄罗斯联邦A. Pochtar
АО «УПКБ «Деталь»
Email: ananpochtar@gmail.com
начальник сектора
俄罗斯联邦参考
- Иванов А., Смирнов Б. Электронно-лучевое напыление: технология и оборудование // НАНОИНДУСТРИЯ. 2012. № 6 (36). С. 28–34.
- Локтев Д. А. Статистическое управление производственными процессами – ключ к успеху современного промышленного предприятия // Известия МГТУ «МАМИ». 2014. № 1(19), т. 2. С. 128–136.
- Уилер Д., Чамберс Д. Статистическое управление процессами. Оптимизация бизнеса с использованием контрольных карт Шухарта / Пер. с англ., 2-е изд. М.: Альпина Паблишер, 2016. 582 с.
- ГОСТ Р ИСО 7870-2-2015. Статистические методы. Контрольные карты Шухарта. Ч. 2. М., 2015. 46 с.
补充文件
附件文件
动作
1.
JATS XML
2.
Fig.1. The end surface of a crystal with a formed metallization topology
下载 (10KB)
3.
Fig.2. Scheme of the crystal metallization process through a free mask (not to scale)
下载 (16KB)
4.
Fig.3. Shewhart control chart with designated control limits for the amount of dust on one side of the gap: A – limits ±3σ; B – limits ±2σ; C – limits ±σ; MO – mathematical expectation
下载 (25KB)
5.
Fig.4. Shewhart control chart with designated control limits for the modulus of the sliding range of the amount of dust deposited on one side of the gap: A – limits ±3σ; B – limits ±2σ; C – limits ±σ; MO – mathematical expectation
下载 (25KB)
6.
Fig.5. Shewhart control charts for individual gap width values with designated control limits: UNPLx – upper control limit; CLx – central line (mathematical expectation); LNPLx – lower control limit
下载 (28KB)
